荷蘭半導體設備出口管制涵蓋光刻、沉積、外延等設備

(資料圖)

根據(jù)荷蘭政府官網(wǎng)，以下設備屬于出口管制范圍：

- EUV光罩保護膜及其生產(chǎn)設備；

- 光刻設備：

a、光源波長＜193nm；或者

b、光源波長≥193nm，且滿足最小可分辨特征尺寸（MRF）≤45nm，以及DCO≤；

- 特定ALD設備；

- 特定的硅、碳化硅、鍺硅外延設備等；

管制新規(guī)將在今年9/1日生效，上述設備出口需要經(jīng)過荷蘭外貿(mào)和發(fā)展合作部部長許可。

ASML最先進浸沒式光刻機受到影響，符合此前預期

6/30日，ASML官網(wǎng)發(fā)表聲明，荷蘭政府當日發(fā)布針對半導體設備出口的管制新規(guī)（EUV銷售已經(jīng)被限制）。ASML表示，最先進的浸沒式DUV系統(tǒng)（NXT：2000i及之后型號）需要申請荷蘭政府的出口許可。高端DUV光刻機出口限制情況與今年3月ASML預期的一致。根據(jù)ASML官網(wǎng)，1980Di型號光刻機的波長為193nm，分辨率≤38nm，DCO為（不屬于限制范圍）。通過多重曝光，1980Di可以做到更小制程，從而滿足國內(nèi)大部分晶圓產(chǎn)線擴產(chǎn)的需求。

建議關注：拓荊科技、華海清科、中微公司、北方華創(chuàng)、芯源微、精測電子等。

風險提示：需求不及預期、技術迭代和貿(mào)易摩擦風險。

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